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產(chǎn)品名稱：密閉制冷加熱循環(huán)裝置 高低溫一體機(jī)
更新時(shí)間：2025-11-14
產(chǎn)品型號(hào)：ZT-20-200-30H
產(chǎn)品特點(diǎn)：密閉制冷加熱循環(huán)裝置 高低溫一體機(jī)廣泛應(yīng)用于有機(jī)合成、生物、制藥、食品等各大科研及高校實(shí)驗(yàn)室。有防爆型可供選擇，具有安全、、環(huán)保、方便等特點(diǎn)。
| 品牌 | 長(zhǎng)城科工貿(mào) |
|---|
密閉制冷加熱循環(huán)裝置 高低溫一體機(jī)廣泛應(yīng)用于有機(jī)合成、生物、制藥、食品等各大科研及高校實(shí)驗(yàn)室。有防爆型可供選擇，具有安全、、環(huán)保、方便等特點(diǎn)。能提供熱源或冷源的循環(huán)裝置。工作范圍廣，可用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源。
制冷加熱循環(huán)裝置，又稱高低溫一體機(jī)、制冷加熱一體機(jī)，為需冷卻或加熱設(shè)備如反應(yīng)釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀等提供高低溫循環(huán)液，通過(guò)外循環(huán)的方式為反應(yīng)器皿提供熱源或冷源，達(dá)到反應(yīng)所需條件，控溫精度高。
應(yīng)用
●化工、制藥和生物領(lǐng)域中雙層及三層反應(yīng)釜的溫度控制。
●材料測(cè)試中的溫度控制。
●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
●工藝過(guò)程中的溫度變化模擬控制。
●恒溫控制系統(tǒng)。
●半導(dǎo)體設(shè)備的溫度控制。
●熱測(cè)試平臺(tái)的溫度控制。
●真空室的溫度控制。
| 使用溫度范圍(℃) | -30～200 | |
| 溫度穩(wěn)定性(℃) | ±0.5 | |
| 電源（V/Hz） | 220-240V～ ，50Hz | |
| 整機(jī)功率 (kW) | 4.7 | |
| 制冷量(Kw) | 200℃ | 1.7 |
| 10℃ | 2.6 | |
| -10℃ | 1.1 | |
| -20℃ | 0.7 | |
| -30℃ | 0.3 | |
| 制冷劑 | R22 | |
| 浴液加注量（L） | 10 | |
| 加熱功率（kW） | 3 | |
| 循環(huán)泵性能 | 流量(L/min) | 30 |
| 壓力 (bar) | 1 | |
| 外形尺寸 (mm) | 580W×825D×1370H | |
| 重量（kg） | 172 | |
密閉制冷加熱循環(huán)裝置 高低溫一體機(jī)
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